Graphene synthesis equipment - メーカー・企業と製品の一覧

Graphene synthesis equipmentの製品一覧

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nanoCVD-8G Graphene Synthesis Device

◉ Short time: Easily conduct graphene synthesis experiments in just 30 minutes per batch. ◉ High-precision temperature and pressure control. ◉ Sophisticated software.

◉ High efficiency and high precision process control using cold wall method ◉ Rapid heating: 1100℃ in approximately 3 minutes ◉ High precision temperature control: ±1℃ ◉ High precision APC automatic pressure control system: 3 gas lines (Ar, H2, CH4) ◉ Standard recipe included for graphene production ◉ Compact size: 405(W) x 415(D) x 280(H)mm

企業：テルモセラ・ジャパン本社
価格：Other

CVD Equipment

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Wafer Scale Graphene Synthesis Device [nanoCVD-WGP]

Plasma CVD equipment compatible with wafer sizes of Φ3 inch and Φ4 inch. Rapid synthesis of clean, high-quality graphene while suppressing impurities.

Plasma CVD equipment compatible with wafer sizes of Φ3 inch and Φ4 inch. Rapid synthesis of clean, high-quality graphene while suppressing impurities. Usable with both thermal CVD and low to high temperature plasma CVD methods. The mass flow gas supply system and substrate heating heater can be customized according to your requirements.

企業：テルモセラ・ジャパン本社
価格：Other

CVD Equipment

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